液氨蒸发器补漏（液氨蒸发器内部结构）

大家好，今天小编关注到一个比较有意思的话题，就是关于液氨蒸发器补漏的问题，于是小编就整理了1个相关介绍液氨蒸发器补漏的解答，让我们一起看看吧。

1. 四氯化锗用途？

1、四氯化锗用途？

主要用途：用作光导纤维渗杂剂，半导体锗的原料。

四氯化锗化学式GeCl4；无色的发烟液体；熔点－49.5℃,沸点84℃,密度1.8443克/厘米3(20℃)；溶于乙醇和乙醚。

四氯化锗蒸气以单分子形式存在，分子呈四面体结构。

泄漏应急处理：

疏散泄漏污染区人员至安全区，禁止无关人员进入污染区，建议应急处理人员戴好毒面具，穿化学防护服。不要直接接触泄漏物，在确保安全情况下堵漏。

用沙土、蛭石或其它惰性材料吸收，然后收集运至废物处理场所处置。如大量泄漏，利用围堤收容，然后收集、转移、回收或无害处理后废弃。

防护措施：

呼吸系统防护：可能接触其蒸气时，应该佩带防毒面具。必要时佩带自给式呼吸器。

眼睛防护：戴化学安全防护眼镜。

防护服：穿工作服(防腐材料制作)。

手防护：戴橡皮手套。

其它：工作后，淋浴更衣。单独存放被毒物污染的衣服，洗后再用。保持良好的卫生习惯。

急救措施：

皮肤接触：立即脱去污染的衣着，用大量流动清水彻底冲洗。

眼睛接触：立即提起眼睑，用流动清水冲洗10分钟或用2%碳酸氢钠溶液冲洗。

吸入：迅速脱离现场至空气新鲜处。注意保暖，保持呼吸道通畅。必要时进行人工呼吸。就医。

食入：患者清醒时立即漱口，给饮牛奶或蛋清。立即就医。

灭火方法：干粉、砂土。禁止用水。

主要用途是用作光导纤维渗杂剂，半导体锗的原料。

四氯化锗化学式GeCl4，无色液体。熔点-49.5℃(α型)、-52℃(β型)，沸点84.0℃，相对密度1.844330，折光率1.464。遇水分解生成二氧化锗和氯化氢。溶于乙醇、乙醚，在液氨中生成Ge(NH)2，极易溶于稀盐酸，不溶于浓盐酸和浓硫酸，能与浓硝酸慢慢反应。

四氯化锗可用以制纯锗。锗是一种高价值的稀有金属，常规的金属锗制备方法为，锗原料通过酸蒸馏成为四氯化锗，四氯化锗再经过水解转化为二氧化锗，二氧化锗再经过还原成为还原锗，还原锗再进行区熔提纯过程得到金属锗。中间需要经过水解、还原、区熔等过程，生产工艺流程较长，设备设施投入较多，过程中带入杂质造成金属锗产品二次污染的几率较大。

nbsp; nbsp; nbsp; nbsp; 四氯化锗可用以制纯锗。锗是一种高价值的稀有金属，常规的金属锗制备方法为，锗原料通过酸蒸馏成为四氯化锗，四氯化锗再经过水解转化为二氧化锗，二氧化锗再经过还原成为还原锗，还原锗再进行区熔提纯过程得到金属锗。中间需要经过水解、还原、区熔等过程，生产工艺流程较长，设备设施投入较多，过程中带入杂质造成金属锗产品二次污染的几率较大。

nbsp; nbsp; nbsp; nbsp; 有研究提出一种四氯化锗直接还原为锗的工艺，从而解决二氧化锗制备锗的方法生产工艺流程较长，设备实施投入较多，过程中带入杂质造成金属锗产品二次污染等问题。

四氯化锗可用以制纯锗。锗是一种高价值的稀有金属，常规的金属锗制备方法为，锗原料通过酸蒸馏成为四氯化锗，四氯化锗再经过水解转化为二氧化锗，二氧化锗再经过还原成为还原锗，还原锗再进行区熔提纯过程得到金属锗。中间需要经过水解、还原、区熔等过程，生产工艺流程较长，设备设施投入较多，过程中带入杂质造成金属锗产品二次污染的几率较大。

有研究提出一种四氯化锗直接还原为锗的工艺，从而解决二氧化锗制备锗的方法生产工艺流程较长，设备实施投入较多，过程中带入杂质造成金属锗产品二次污染等问题。

到此，以上就是小编对于液氨蒸发器补漏的问题就介绍到这了，希望介绍关于液氨蒸发器补漏的1点解答对大家有用。